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高纯钽颗粒 Ta片 定制溅射镀膜钽靶材 高纯钽蒸发料

钽
化学符号：Ta  
原 子 量：180.9479
密    度：16.6 g/cm3 
熔    点：2996℃
在10-4Torr蒸发温度： 2590℃ 
电 阻 率：13-16μΩ•cm 
线膨胀系数：6.5×10-6℃-1
功 函 数：4.15-4.25eV 
热 导 率：0.54W/（cm•K）
机械和化学性质：形成好的薄膜。耐酸性和延展性好。
应    用：Ta膜主要用作薄膜电容器和抗蚀图层。

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合金、金属粉末、耗材配件等千余种产品，质量稳定、工艺完善，得到广大客户好评。

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提供整体解决方案：帮助客户进行产品选择、样品提供、工艺建议、技术支持与指导等

提供各类镀膜材料及耗材

镀膜所需的各种靶材、蒸镀膜料、晶振片等相关材料，最大限度地满足客户需求

靶材绑定服务

采用铟焊绑定技术，进行靶材与金属背板的绑定服务，提高靶材的稳定性和利用率

定制服务

可根据客户需要的靶材、块材等产品的成分比例、图纸尺寸等进行定制服务

贵金属回收

贵金属材料属消耗性材料，使用后尚有剩余价值，将其回收再加工，节省客户成本及地球能源

技术及咨询

提供产品选择、工艺建议等技术支持与指导

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